0.768nm！美国造出全球最高分辨率光刻机：现在下单，6个

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当谈到半导体制程的尖端技术，人们往往会想到EUV光刻机，尤其是5nm及以下的制程，这几乎成了必备的工具。然而，EUV光刻机价格昂贵，供应商也十分有限，ASML成为了唯一的选择。对于更高级的制程，比如2nm，ASML的新一代0.55NAEUV光刻机是必需的，但价格可能高达4亿美元。

而对于追求更小制程的1nm以下，连ASML的新一代光刻机也无能为力。

然而，近日，一家美国公司ZyvexLabs却宣布推出了一款令人瞩目的产品——全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统“ZyvexLitho1”。这个系统打破了传统，没有采用EUV光刻技术，而是采用了基于STM扫描隧道显微镜的电子束光刻方式，其精度更胜于EUV光刻机。

ZyvexLitho1的核心技术是氢去钝化光刻，一种EBL的变体。

这种技术利用氢去钝化的方式，使用低能量电子进行原子分辨率的制作。HDL使用附着在硅表面的单层H原子作为抗蚀剂，并通过电子刺激解吸在抗蚀剂中创建图案。与传统的高能电子束光刻不同，HDL实现了更高的分辨率和精度，将沉积能量集中在极小的曝光区域，可以暴露比传统EBL更小得多的区域，甚至小到只有单个原子大小。

ZyvexLitho1的五大特色功能进一步彰显了其技术的突破性。

首先，它拥有无失真成像能力，可以实现原子级精确的尖端定位。其次，采用自适应电流反馈回路，可以显著减少尖端碰撞，增加工作稳定性。此外，自动晶格对准技术使得在光刻前后可以对硅表面进行自动成像，从而实现准确的尖端定位。数字矢量光刻则让设计与实际制作更加精准，可以根据不同的光刻模式进行自动曝光。最后，系统具备自动化和脚本功能，几乎所有操作都可以自动完成，大大提高了工作效率。

值得注意的是，ZyvexLitho1并非实验室原型产品，而是已经可以商用的产品。根据官方介绍，用户可以下单购买，并在六个月后交货。目前，该系统有标准版和高级版两个版本可选，但具体售价尚未公布。

ZyvexLabs的技术引起了业界的广泛关注和赞誉。知名量子计算专家、2015年费曼奖得主Michelle Simmons教授表示，ZyvexLitho1的原子级精密图案将为量子计算机的制造提供强有力的支持，有望实现更安全的通信、更快速的新药开发以及更准确的天气预报。

而STM光刻技术的发明者Joe Lyding教授则认为，ZyvexLabs的技术是目前唯一商业化实现的原子级精确光刻技术。

总体而言，ZyvexLitho1的推出在半导体制程领域带来了一股新的风潮。虽然相对于EUV光刻机，其产量可能较低，但对于制作高精度的芯片或掩膜板来说，这种技术将发挥重要作用。随着技术的不断进步，或许未来可以解决其产量问题，为半导体制造向着皮米级前进提供更多可能性。

关于Zyvex公司，它于1997年由Jim Von Ehr创立，致力于开发和商业化原子精密制造技术。APM技术在灵活制造各种产品方面具有潜力，从超级计算机到医疗设备。该公司的技术不断发展壮大，引起了多个领域的关注，尤其是在纳米领域。该公司曾获得多个奖项和支持，为其创新提供了坚实的基础。

综上所述，ZyvexLitho1的出现将为半导体制程领域带来新的可能性和方向。