【半导体材料】国产替代，国内 10 大核心公司

一、硅片——国产替代与12英寸扩产核心赛道

1. 沪硅产业

主营业务：300mm（12英寸）半导体抛光片、外延片及SOI硅片，国内唯一实现300mm SOI硅片量产的企业。

核心亮点：当前上海及太原两地300mm半导体硅片合计产能已达85万片/月，300mm SOI硅片试验线已建成产能约16万片/年；产品已稳定供应2nm/3nm先进制程客户，在AI、硅光等前沿领域深度布局。

关注原因：国产替代加速叠加价格修复预期驱动。300mm大硅片作为AI算力芯片的核心基础材料，是当前半导体材料国产替代中逻辑最硬的品种之一。

2. 立昂微

主营业务：12英寸抛光片、外延片及功率器件用硅片，同时布局化合物半导体射频芯片。

核心亮点：2026年Q1 12英寸硅片收入同比增长88.12%，其中12英寸外延片收入同比大增160.42%；功率器件及车规级硅片认证完善，在功率半导体硅片领域优势突出。

关注原因：受益于硅片国产化替代趋势及AI算力对高端硅片需求的持续拉动。

二、光刻胶——卡脖子最深、国产替代空间最大的核心材料

3. 彤程新材

主营业务：G线/I线、KrF、ArF半导体光刻胶及TFT阵列光刻胶。

核心亮点： 国内KrF光刻胶市占率第一，通过控股北京科华掌握了KrF光刻胶核心技术，国内市占率约40%，已实现树脂自产。 ArF光刻胶实现超800%突破性增长，率先通过中芯国际、华虹等批量验证。

关注原因：高端光刻胶国产化率长期不足10%，彤程新材与南大光电是当前国产替代的核心主力，头部晶圆厂已验证导入其成熟制程KrF/ArF产品，"成熟制程全面导入→先进制程批量供货"的国产替代路径高度确定。

4. 南大光电

主营业务：ArF浸没式光刻胶、KrF光刻胶及高纯电子特气（高纯磷烷、砷烷等）。

核心亮点：国内唯一实现28nm以上制程ArF光刻胶稳定量产的企业，产品直接供应中芯国际、长江存储。 2025年建成50吨/年ArF光刻胶生产线，计划2026年扩产至500吨/年，关键原材料树脂、光敏剂100%自产。

关注原因：高端光刻胶是半导体材料国产化率最低的领域之一，南大光电的ArF量产突破意味着国产替代已从"实验室验证"跨越至"产业化落地"的关键转折点。

三、CMP抛光材料——晶圆平坦化核心耗材

5. 安集科技

主营业务：化学机械抛光（CMP）抛光液、功能性湿电子化学品及电镀液添加剂。

核心亮点：国内CMP抛光液龙头，2025年CMP抛光液全球市占率约13%，已跻身全球主流供应商行列

关注原因：CMP抛光材料是晶圆平坦化工艺的核心耗材，受益于AI芯片制造对平坦化工艺要求的提升，市场前景广阔。

6. 鼎龙股份

主营业务：CMP抛光垫、CMP抛光液、清洗液及高端晶圆光刻胶。

核心亮点：国内CMP抛光垫龙头，2025年全年实现收入10.91亿元，同比增长52.34%，覆盖抛光垫全品类、全技术节点。 2026年Q1末武汉本部抛光硬垫月产能将提升至年产约60万片，抛光液及研磨粒子产能约2.5万吨，清洗液产能约1.2万吨。

关注原因：鼎龙股份横向拓展抛光液、清洗液等产品线，是CMP领域平台化布局最完善的企业之一。

四、电子特气——产能与全球地位的"双龙头"

7. 华特气体

主营业务：光刻气（高纯三氟化氮/六氟化钨）、半导体显示面板用特种气体等。

核心亮点：光刻气国内市占率高达60%，是中国唯一、全球唯四获得ASML认证的企业。 产品覆盖国内8-12寸晶圆厂超90%，2款产品已进入5nm制程，累计实现57款产品的进口替代。

关注原因：光刻气是半导体光刻工艺的核心耗材，华特气体凭借ASML认证构筑极强护城河，技术壁垒和客户粘性均极高。

8. 中船特气

主营业务：高纯三氟化氮（NF₃）、六氟化钨（WF₆）、三氟甲磺酸系列产品。

核心亮点：三氟化氮产能18500吨/年（全球第一），六氟化钨产能2000吨/年（全球最大生产基地），现有产能均为全球第一，新增年产1000吨产能预计2027年开始生产。

关注原因：六氟化钨价格暴涨，中船特气作为全球六氟化钨最大供应商，充分受益于此轮涨价周期。 超高纯三氟化钨已稳定供应境外3nm先进制程，并在2nm领域开展测试验证。

五、溅射靶材——外资垄断最牢固、国产替代弹性最大的细分

9. 江丰电子

主营业务：超高纯金属溅射靶材，覆盖铝靶、钛靶、钽靶、铜靶、钨靶等，面向AI芯片逻辑、存储及先进封装领域。

核心亮点：全球超高纯金属靶材龙头企业，客户覆盖台积电、中芯国际、海力士等全球龙头。 子公司拟购置设备扩充产能。

关注原因：在AI芯片制造对靶材需求激增的背景下，靶材涨价趋势明确，券商预计靶材有望贡献高额收入，成为业绩弹性核心来源。

六、湿电子化学品——G5级突破是核心拐点

10. 晶瑞电材

主营业务：高纯双氧水、高纯硫酸、高纯氨水等G5级湿电子化学品，以及i线/KrF/ArF光刻胶。

核心亮点：国内G5级湿电子化学品绝对龙头，双氧水、硫酸、氨水三大主力产品均达G5等级，是电子工业中清洗、蚀刻、光刻等湿制程工艺的关键耗材，其质量直接影响产品良率。 晶瑞电材是国内仅有的通过中芯国际G5认证的企业之一，G5级硫酸已批量供货中芯国际，营收占比从5%提升至20%。

关注原因：高纯湿化学品国产替代已进入G5级突破的深水区，G3/G4级已有批量供货，G5级仍是确定性最高的国产替代方向。